नैनो एंटीमनी ट्राइऑक्साइड

हैलोजन मुक्त ज्वाला मंदक उन्नयन और सटीक कार्यात्मक सामग्री को अपनाने के लिए मुख्य कच्चे माल के रूप में नैनो एंटीमनी ट्राइऑक्साइड (Sb₂O₃), न केवल कण आकार में मात्रात्मक परिवर्तन है, बल्कि प्रतिक्रिया मोड में गुणात्मक परिवर्तन भी है: यह पारंपरिक "कण सतह प्रतिक्रिया" को "पूर्ण कण तात्कालिक थोक प्रतिक्रिया" में अपग्रेड करता है। इसका मतलब यह है कि आपने हैलोजन एंटीमनी सहक्रियात्मक प्रतिक्रिया के संपर्क क्षेत्र को सैकड़ों गुना बढ़ा दिया है और प्रतिक्रिया की शुरुआत के "इग्निशन विलंब" को लगभग शून्य तक कम कर दिया है, जिससे अत्यधिक थर्मल शॉक की स्थिति में उच्च-अंत पॉलिमर के लिए तत्काल, पूर्ण और विस्फोटक गैस-चरण ज्वाला मंदक सुरक्षा प्रदान की जाती है।

मूल ताकतें

1. मोनोडिस्पर्स नैनोस्केल गुणवत्ता और सटीक नियंत्रण

- औसत कण आकार D50 20-100 एनएम (10-50 एनएम के अल्ट्रा फाइन विनिर्देशों के साथ अनुकूलन योग्य) है, कण आकार वितरण अवधि ≤ 0.15 μ मीटर, मोनोडिस्पर्सिटी इंडेक्स ≥ 0.92, कोई माध्यमिक समुच्चय नहीं, और 50-80m ²/g तक का एक विशिष्ट सतह क्षेत्र, जो उद्योग में समान उत्पादों से कहीं अधिक है।

-Sb₂O₃ ≥ 99.99% की मुख्य सामग्री, मुख्य अशुद्धियाँ As₂O₃ ≤ 0.005%, PbO ≤ 0.01%, Fe₂O₃ ≤ 0.002%, हानिकारक पदार्थों के प्रवास को रोकने और इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड, खाद्य संपर्क ग्रेड और चिकित्सा ग्रेड सामग्री की सख्त शुद्धता आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए।

-सफेदी ≥ 99.5 है, घन क्रिस्टल का अनुपात ≥ 99.2% है, क्रिस्टल आकृति विज्ञान नियमित गोलाकार है, और सतह हाइड्रॉक्सिल सामग्री 0.8-1.2 मिमीोल/जी पर सटीक रूप से नियंत्रित होती है, जो बाद के संशोधन के लिए आदर्श प्रतिक्रिया साइट प्रदान करती है।

-वैक्यूम अक्रिय गैस ग्रेडिएंट सुखाने की प्रक्रिया को अपनाते हुए, नमी की मात्रा ≤ 0.06% है, पाउडर में उत्कृष्ट प्रवाह क्षमता (विश्राम का कोण ≤ 32 °) है, और दीर्घकालिक भंडारण के दौरान कोई संचयन घटना नहीं होती है। बैचों के बीच भौतिक और रासायनिक संकेतकों का विचलन ≤± 0.02% है।

2. यथास्थान संशोधन प्रौद्योगिकी सहक्रियात्मक दक्षता की बाधा को तोड़ती है

-नवाचार "विकास संशोधन" की एक तुल्यकालिक इन-सीटू प्रक्रिया को अपनाता है, जो नैनोक्रिस्टलाइन नाभिक के निर्माण के दौरान पॉलीथीन ग्लाइकॉल (पीईजी) और सिलेन कपलिंग एजेंट (केएच-570) की एक समग्र संशोधन प्रणाली पेश करता है। रासायनिक बंधन के माध्यम से, एक कोर-शेल संरचना का निर्माण किया जाता है, जो पीपी, पीवीसी और एपॉक्सी राल जैसे मैट्रिक्स के साथ संगतता में 80% तक सुधार करता है, जो पारंपरिक पोस्ट संशोधन के कारण होने वाली फैलाव अस्थिरता की समस्या को पूरी तरह से हल करता है।

-यह हैलोजन-मुक्त फॉस्फोरस आधारित, नाइट्रोजन आधारित और विस्तार प्रकार के ज्वाला मंदक के साथ एक सुपर सहक्रियात्मक प्रभाव पैदा करता है, जो दहन के दौरान तेजी से एक नैनो स्तर की घनी कार्बन परत और एक गैस-चरण मुक्त रेडिकल कैप्चर परत बनाता है। ज्वाला मंदक रेटिंग सीधे HB स्तर से UL 94 V0 स्तर (0.8 मिमी मोटाई) तक पहुंच सकती है, एक सीमा ऑक्सीजन सूचकांक (LOI) ≥ 40, धुआं घनत्व रेटिंग (SDR) ≤ 40, और जहरीले धुएं के उत्सर्जन में 75% की कमी।

-समान ज्वाला मंदक आवश्यकताओं के तहत, सामान्य एंटीमनी ट्राइऑक्साइड की तुलना में अतिरिक्त मात्रा 40% -50% और पारंपरिक नैनो उत्पादों की तुलना में 20% कम हो जाती है, जिससे सामग्री घनत्व और फॉर्मूलेशन लागत में काफी कमी आती है, और सब्सट्रेट तन्य शक्ति और प्रभाव क्रूरता के लिए ≥ 95% की अवधारण दर बरकरार रहती है।

-यह 10 ⁷ -10 ⁹Ω· सेमी के बीच नियंत्रित प्रतिरोधकता के साथ, धुआं दमन, एंटी-ड्रिपिंग और एंटी-स्टैटिक जैसे कई कार्यों को एकीकृत करता है। यह विशेष एंटी-स्टैटिक एडिटिव्स को प्रतिस्थापित कर सकता है और फॉर्मूलेशन सिस्टम को सरल बना सकता है।

अनुप्रयोग परिदृश्य

नई ऊर्जा बैटरियों के क्षेत्र में

-आवेदन: ऊर्जा भंडारण उपकरण के लिए पावर बैटरी पैक आवरण, लिथियम बैटरी विभाजक कोटिंग, इलेक्ट्रोलाइट एडिटिव, लौ रिटार्डेंट घटक

-फायदे: मोनोडिस्पर्सिबिलिटी कोटिंग की एकरूपता सुनिश्चित करती है, फ्लेम रिटार्डेंट दक्षता 800V हाई-वोल्टेज प्लेटफार्मों की सुरक्षा आवश्यकताओं के अनुकूल होती है, और इलेक्ट्रोलाइट एडिटिव के रूप में, बैटरी चक्र जीवन को 4000 गुना से अधिक बढ़ा सकती है।

-अनुशंसित खुराक: 2% -5% (डायाफ्राम कोटिंग)/0.05% -0.1% (इलेक्ट्रोलाइट)/5% -10% (शेल सामग्री)

5जी इलेक्ट्रॉनिक्स और सेमीकंडक्टर क्षेत्र

-अनुप्रयोग: 5G बेस स्टेशन एंटीना कवर, सेमीकंडक्टर पैकेजिंग सामग्री, लचीले सर्किट बोर्ड और माइक्रो इलेक्ट्रॉनिक घटक आवरण

-फायदे: नैनोस्केल कण आकार सामग्री के ढांकता हुआ गुणों और सिग्नल ट्रांसमिशन दक्षता को प्रभावित नहीं करता है, उच्च शुद्धता चिप संचालन में हस्तक्षेप करने से अशुद्धियों से बचती है, और उच्च आवृत्ति और लघु इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की जरूरतों के अनुकूल होती है।

-अनुशंसित खुराक: 1% -4% (पैकेजिंग सामग्री)/3% -7% (इलेक्ट्रॉनिक आवरण)/2% -5% (लचीला सर्किट बोर्ड)

उच्च स्तरीय वास्तुकला और निर्माण सामग्री क्षेत्र

-आवेदन: पारदर्शी ज्वाला-मंदक ग्लास, अति पतली अग्निरोधक कोटिंग, ज्वाला-मंदक इन्सुलेशन बोर्ड, एलिवेटर सजावटी पैनल

-फायदे: उच्च सफेदी, उच्च पारदर्शिता (संचारण ≥ 90%), निर्माण सामग्री की उपस्थिति डिजाइन को प्रभावित नहीं करता है, परम ऑक्सीजन सूचकांक ≥ 38, ईयू सीपीआर भवन नियमों की उच्चतम अग्नि रेटिंग आवश्यकताओं को पूरा करता है

-अनुशंसित खुराक: 4% -10% (अग्निरोधी कोटिंग)/6% -12% (पारदर्शी लौ-मंदक सामग्री)/8% -15% (इन्सुलेशन बोर्ड)

विशेष सामग्री क्षेत्र

-अनुप्रयोग: मेडिकल पीवीसी पाइप, खाद्य पैकेजिंग फिल्में, एयरोस्पेस मिश्रित सामग्री, पॉलिएस्टर पोलीमराइजेशन उत्प्रेरक

-फायदे: कम अशुद्धियाँ और उच्च फैलाव चिकित्सा और खाद्य संपर्क सामग्री की सुरक्षा आवश्यकताओं को पूरा करते हैं। एक उत्प्रेरक के रूप में, यह पॉलिएस्टर पोलीमराइजेशन दक्षता को 18% से अधिक सुधार सकता है और उत्प्रेरक के उपयोग को 50% तक कम कर सकता है।

-अनुशंसित खुराक: 2% -5% (चिकित्सा सामग्री)/3% -8% (विमानन मिश्रित सामग्री)/0.08% -0.15% (उत्प्रेरक क्षेत्र)

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